반도체 공정 기술 교육 프로그램
(주)시소는 16년 부터 자체적으로 반도체 공개교육을 진행하고, S사 협력기업을 대상으로 반도체 공정 과정을 기획 진행해 왔습니다.
반도체 관련 임직원들의 반도체 공정 및 요소 기술 역량 향상을 위해 체계적인 커리큘럼으로 진행됩니다.
(주)시소의 반도체 공정 기술 교육 체계
· Step1.
반도체 공정 기본과 중급으로 과정을 구분하여, 반도체 설계 → 전 공정 → 후공정, 반도체 제조 프로세스 전반적 이해를 돕습니다.
· Step2.
중급 과정은 반도체 8대공정과 Tesr & Package로, Etch 실무, CVD 실무 과정으로 세분화되어 진행됩니다.
· Step3.
설비기술, 요소기술을 기본, 중급, 실무로 나누어 체계도를 구성하고,
기술 Trend, 협업을 위한 세미나를 운영하고 있습니다.
반도체 공정 기술 교육, 단계별 추천 커리큘럼 (입문 과정)
교육 대상
반도체 관련 취업 준비생 및 신입사원 또는 반도체에 관심 있는 누구나
교육 목표
반도체에 대한 기본 개념을 이해하고, 전반적인 FAB 제조 공저의 개요에 대한 기초 지식 습득
반도체 입문 과정
[입문] 반도체 기초 (1)
• Memory 기본구조
• Memory 분류
• Memory 제품별 기능
• Memory 동작원리
• 제품 측정 단위
• Module 구성 및 동작
반도체 입문 과정
[입문] 반도체 기초 (2)
• MOS의 기본이해
• CMOS Process
-. GATE Formation
-. LDD Formation
-. Source & Drain
-. Contact & Local Interconnect
-. Metal Line
• DRAM / FLASH반도체 입문 과정
[입문] 반도체 기초 (3)
• Wafer 가공
• FAB 제조공정
• Photo / Etch / CVD
• IIP / Clean / CMP
• Diffusion / Metal
• EDS / TEST
• PKG
반도체 공정 기술 교육, 단계별 추천 커리큘럼 (기본 / 초급 과정)
교육 대상
근속 2~5년차 엔지니어 또는 관심 있는 전 임직원
교육 목표
반도체 기초 학습한 내용을 바탕으로, 반도체 기본 전문 기술 습득 및 제조장비의 필요성, 기초 원리 학습
반도체 초급 과정
[초급] Device Solution
• Memory 기본구조
• Memory 분류
• Memory 제품별 기능
• Memory 동작원리
• 제품 측정 단위
• Module 구성 및 동작
반도체 초급 과정
[초급] 8대 공정 기초 (1)
• 광학기초 (Photo)
-. Polarization
-. Law of Reflection
-. Refraction
-. Interference
-. Diffraction
반도체 초급 과정
[초급] 8대 공정 기초 (2)
• Plasma 기초 (ETCH)
-. Plasma generation
-. Plasma character
-. Plasma reaction
-. Mechanism
반도체 공정 기술 교육, 단계별 추천 커리큘럼 (중급 과정)
교육 대상
근속 5~10 년차 엔지니어 또는 관심 있는 전 임직원
교육 목표
반도체 제조 관련 설계를 이해하며, 기본적 이론을 바탕으로 한 반도체 8대 제조 공정의 세분화된 전문 기술 엔지니어 양성
반도체 중급 과정
[중급] Photo Lithography
• Coating & Bake
• Exposure
• Develop
• Mask & Repair
반도체 중급 과정
[중급] ETCH
• Etch rate
• uniformity
• Selectivity
• Directionality & Loading effect
반도체 중급 과정
[중급] Diffusion (ALD)
• Introduction
• Diffusion Process
• Oxidation
• Annealing
반도체 중급 과정
[중급] Ion Implantation
• Implantation Process
• Implantation Hardware
• Implantation System
• Projected Range
반도체 중급 과정
[중급] Clean
• Cleaning Definition
• Chemical Treatment
• Hydrophilic
• Hydrophobic
• Particle Remove
반도체 중급 과정
[중급] CMP
• CMP Process
• CMP Equipment
• Oxide
• Metal CMP
• Cu CMP
반도체 중급 과정
[중급] CVD
• Thin film Deposition
• Aspect Ratio & Step
• Coverage
• CVD Reaction
• Thin Film Filling Issue
반도체 중급 과정
[중급] Metal (EP)
• PVD Introduction
• Evaporation
• Sputtering
• EP Process
반도체 공정 기술 교육, 단계별 추천 커리큘럼 (요소기술 中)
반도체 요소기술 실무 과정
[실무] 진공 시스템
• 진공의 발견
• 진공시스템의 개요
• 진공 펌프의 종류 / 구조 / 특성
• 진공 배기 시스템
• 각 소자공정에서의 진공
• 반도체 공정과 진공도 측정
반도체 요소기술 실무 과정
[실무] Plasma
• Plasma 기초
• Plasma 정의 및 발생 원리
• Plasma 발생 유형
• 반도체 공정 응용 원리
• RF 기초 및 에너지 정의
• RF 응용 및 구성 원리
반도체 요소기술 실무 과정
[실무] Motor
• Motor의 종류
• Motor의 원리
• Servo Motor 이해
• Servo Motor 단축, 다축제어
• Stepping Motor 구동 원리
• Stepping Motor 토르크
반도체 8대 공정 공개 교육 및 반도체 기술, 설비 관련 세미나
반도체 8대 공정 공개교육
반도체 기술, 설비 관련 세미나